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英特尔年度发明家跳槽至三星

Intel 年度发明家
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在半导体行业的一项重大人事变动中,英特尔 2024 年“年度发明家”段刚正式加入三星电机,担任封装解决方案执行副总裁。段刚在英特尔工作了 17 年,拥有近 500 项专利,是先进芯片封装领域的权威,尤其擅长嵌入式多芯片互联桥接(EMIB)玻璃基板技术。

高级芯片封装的重要性
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随着晶体管逐渐逼近物理极限,性能的提升越来越依赖于先进封装技术——将 CPU、GPU 和内存等多个芯片模块紧密集成。段刚是英特尔 EMIB 技术的核心开发者之一。EMIB 通过嵌入小型硅桥,仅在高带宽区域连接芯片,避免了使用完整硅中介层的高成本,传输速率可达数 Tbps,已用于英特尔部分服务器 CPU 中,用于连接主处理器和高速缓存,降低系统延迟。

他还在英特尔主导了 玻璃基板 的研究。相较传统有机基板,玻璃具有更低的热膨胀系数和更高的热稳定性(可达 400°C 以上),并具备更优的平整度。这使得线路间距可缩小至亚微米级,甚至有望在单芯片上集成超过 1 万亿个晶体管。英特尔的玻璃基板原型厚度约为 100 微米,可通过激光钻孔实现高密度垂直互连,预计将在 2025 年底实现量产。

战略转变与行业趋势
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2024 年,英特尔因代工业务持续亏损,调整了内部资源配置,暂停玻璃基板自研,转而采购第三方产品以控制成本。这些商用玻璃板尺寸可达 510mm × 515mm,平整度误差小于 1 微米,适合大规模生产。同时,英特尔也在推进 Foveros 3D 堆叠 技术,采用铜互连实现多层芯片堆叠,部分产品已投入量产。

段刚的加入使他直接参与三星的玻璃基板项目。三星计划于 2025 年初建立试产线,目标在 2027 年实现量产,主要面向高性能计算和 AI 芯片市场。三星的玻璃基板采用化学蚀刻工艺,厚度控制在 100 微米以下,功耗降低 10% 至 20%,并可承受数千次热循环,非常适用于汽车和航空航天领域。同时,三星也正与材料供应商合作,确保其基板可兼容现有产线。

三星的技术优势
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段刚的专利组合涵盖了微凸点互连和**重新分布层(RDL)**设计,是实现高密度封装的关键。微凸点可缩短芯片与基板之间的信号路径,降低延迟。相关技术可帮助三星缩短量产周期,预计 2028 年前后将玻璃基板应用于主流芯片制造。

玻璃基板还支持更大尺寸的芯片封装,是 2.5D 和 3D 封装的理想选择,可将芯片边长扩展至 10mm–20mm,并改善信号完整性和热性能。行业测试显示,玻璃基板芯片封装可实现 2 倍面积利用率和更低信号损耗,对于 AI 训练等高吞吐场景尤为重要。AMD 和台积电也在探索类似材料,AMD 预计将于 2025–2026 年推出基于玻璃基板的产品。此外,玻璃的透明性有助于激光对准和缺陷检测,提升制造精度。

展望:芯片集成迈入新纪元
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英特尔目前正专注于 18A 工艺节点,该节点采用 RibbonFET 晶体管和 PowerVia 背面供电技术,将晶体管密度提升约 30%。通过外采玻璃基板,英特尔在降低研发成本的同时仍能紧跟技术发展。相比之下,三星通过生态合作与设备厂商试产,加速其玻璃基板量产路径。

玻璃基板将是下一代芯片架构的关键,尤其在集成异构单元(如神经网络加速器)方面具备独特优势。预计 2027 年后,玻璃基板将在高性能计算和 AI 领域实现更广泛应用。

段刚的加入不仅增强了三星的技术实力,也再次凸显人才与战略执行力在半导体竞争中的重要性。他的专利成果有望加速三星封装路线图,助力其在全球芯片产业中的布局进一步推进。

原文地址: Intel’s Inventor of the Year Jumps to Samsung

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